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중국인 기술자, 미국서 간첩 혐의로 8년형 선고


미국 워싱턴의 연방 법무부 건물.
미국 워싱턴의 연방 법무부 건물.

중국인 기술자 한 명이 25일 미국에서 간첩 혐의로 8년형을 선고받았습니다.

2013년 학생 비자로 미국에 온 중국인 기술자 지 차오춘은 2018년 9월 미 당국에 체포됐습니다.

그는 중국 고위 정보 당국자의 지시를 받고 중국계 미국인 등 8명에 대한 신상 정보를 중국 당국에 제공한 것으로 알려졌습니다.

미 법무부는 지씨의 간첩 활동이 미국 기업이 개발 중인 첨단 항공우주 및 위성 기술에 접근하기 위한 중국 정보 당국 노력이라고 지적했습니다.

VOA 뉴스

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